即將參展卻來不及申請專利,怎麼辦?

woman working in laboratory

「公開展出前來不及申請專利?」或是「已經公開後申請專利?」在創作開發的過程中,你可能忽略掉了時間上的安排,忽略了公開參展可能會讓你的創作產生缺陷。為什麼會有缺陷?大多數的國家為了公共利益及促進產業發展,一旦技術或創作公開,一定程度代表此創作可被接觸及或再利用。簡單來說:「見光死」

故欲公開技術或創作之人,公開之前應三思而行、謀定後動。

一、處理原則:

  • 專利一旦參展即有公開事實,可能喪失專利要件而遭不准。
  • 展覽中所展示的原型、所販售的作品集、所發放的DM,都可能涉及專利法第22條第1項各款,而喪失專利要件

二、「優惠期」例外規定:

多數地區的法律制度有所謂「優惠期」的規定,目的在於讓一些創作人、發明人可以評估市場反應後再選擇是否投入資源申請專利。

(一)、台灣

  • 在展出後12個月內向智慧局提出申請,有優惠期(Grace period)適用。
  • 專利法第22條第3項申請人出於本意或非出於本意所致公開之事實發生後12個月內申請者,該事實非屬專利法第22條第1項各款或第2項不得取得發明專利之情事。現行無須檢附相關文件。
  • 並未限制國內外展覽。

(二)、美國

  •  與台灣規定相似,有12個月期間的優惠期。並未限制國內外展覽。

(三)、中國

第24条 申請專利的发明创造在申请日以前六个月內,有下列情形之一的,不喪失新穎性:

  1. 在中国政府主辦或者承認的国际展覽会上首次展出的;
  2. 在規定的学術会議或者技術会議上首次发表的;
  3. 他人未经申請人同意而泄露其內容的。

(四)、歐洲

於6個月以內有以下要件有優惠期:

  1. 由於與該發明人/申請人有關的「明顯濫用(evident abuse)」所造成的公開。(例如:非申請人本意公開。其條件嚴苛難以證明)
  2. 少數公開展示於官方所主辦或認可之國際展覽會。

(四)、日本

▪      於6個月以內,申請時需向特許廳檢附相關文件。

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