設計專利申請及佈局

1. 什麼是設計專利？

設計專利用來保護「看得見的感受」，用中華民果法律的定義即為「形狀、花紋、色彩或其結合」。這更包含了GUI、ICON、LOGO…等等。

2. 元宇宙、NFT、3D列印、AR、VR、MR都少不了設計專利

正如同上一篇文章所說的，看得到的都能以設計專利保護。在網路時代裡，創作者的作品遍佈網路市場。設計專利權比起著作權，給予創作人更確實的保護。

3. 大樓外觀、景觀設計或室內設計保護

既然是看得到的感受能保護，大一點標的當然也可以。創作者創意的結晶，不經加保護，很容易就被競爭者「搭便車(free ride)」而難以有效對抗。

4. 著作權和設計專利的5個不同和7個迷思

最重要的是，多數創作人認為「著作權法」即能保障一切權利。然而，實戰經驗上，先握有「權利」，才可以率先發聲。然而，利用著作權救濟的途徑，創作人的挑戰是：「創作無著作權」、「被控者無抄襲」。

1.1. 模糊的設計專利範圍 Ambiguity

當通常知識者從各個視圖都無法確認揭露的設計範圍時，審查人員會發出駁回的審查意見。換句話說，當通常知識者從所有揭露的圖式中無法推知主張範圍的內容（設計）時，將可能致有一個以上的解釋範圍。

1.2. 設計圖式間不一致 Inconsistency

當視圖或圖式之間揭露的樣式不一致，而導致無法被通常知識者理解成唯一時，審查人員會發出駁回的審查意見。例如：仰視圖呈現的部件為圓形，但與立體圖同位置呈現的部件為橢圓形。

1.3. 無法據以實施設計 Non-Enablement

當圖式或設計說明無法被通常知識者理解時，很可能被審查人員發出駁回的審查意見。例如：圖式線條的揭露無法被通常知識者理解，並得知如何實現。

1.4. 圖式明確性問題 Objections to the Drawing Disclosure

當圖式或設計說明可以被通常知識者理解，但是揭露內容有錯誤時，審查人員會發出審查意見通知補正。例如：陰影線的製作錯誤。

一件設計專利申請案，僅得就單一外觀應用於單一物品提出申請。部分國家有實行「一設計多種實施例」（Multiple embodiments）的申請方式。申請前、申請中、出口案、進口案，都有檢視申請圖式及範圍之必要。在選擇申請不同國家的設計專利時，有必要考量優先權問題，以及是否有機會擴大設計專利權範圍。

4.1 有關新穎性（Novelty）：

當「設計」已見於網路上公開事實、展覽而公開、販售而公開、行銷而公開…等事件而有影響新穎性之可能，申請人應該如何避免或解決。

4.2. 有關創作性（Non-obviousness, Individual Character)：

申請人因「效仿」或「取材」他人「設計」而有商標權侵害、著作權侵害、專利要件之創作性的疑慮。

陰影線的多寡及位置、線條的種類、材質的表現、線條的解釋、各國地區對於圖式的線條表達有諸些不同。申請人應特別注意線條所要傳達的意思和解釋。進一步說名，申請人容易忽略其創作本身的「設計專利範圍」。

申請人對於設計專利權的範圍解釋並不熟悉，主要影響申請人權利的決定如下：

2.1. 應該放大範圍：

由於申請人認為的「相似」、「近似」，與各地實務見解有很大落差。在揭示的先前技藝中，有些能夠被擴大而未保護的範圍，應被納入佈局考量。

2.2. 應該縮小範圍：

已經完成的設計，在對比先前技藝後，應做出縮小範圍而避免被前案影響「專利要件」之取得。然而，誠如前述所言，申請人在判斷是否近似時，有些許落差。這些觀念上的落差可能會對未來的權利範圍有關鍵性的影響。

申請人對於設計專利的內容需要一些文字解釋及說明。這些文字說明會對設計專利權的範圍產生影響。適當的文字說明可以讓申請案「迴避先前技術」、「製造答辯機會」或是「擴大專利權範圍」。

有些設計創作會需要較多的視圖或角度來呈現設計專利的專利範圍；有些則需要減少視圖來解決或調整設計專利的權利範圍。透過專利師協助可以給予更好的 設計專利佈局。

視圖並非全部都以立體圖+六面視圖提交給主管機關。適當的調整圖式的數量將會有助於提升申請案的品質及權利範圍的解釋，更能避免一些不必要的審查意見。